Intel construirá chips de 1,4 nanómetros en 2026 y 1 nanómetro en 2028

Un nuevo roadmap desvela datos muy interesantes de lo que está por venir más allá de la próxima década. Los avances en escala litográfica se van a ver ralentizados hasta el punto de que las mejoras parecerán insignificantes por el nombre de los nodos, pero realmente en porcentaje se mantendrán en mayor o menor medida. Lo interesante aquí es comparar lo que se estima hasta el año 2036 y lo que ofrece ASML, los cuales parecen avanzar a un ritmo mucho más lento que las predicciones para nodos litográficos. Por ello, lo más inminente es lo más importante, puesto que Intel tendría chips a 1 nm ya en 2028.

Lo cierto es que tras los retrasos de Intel el roadmap ha quedado un poco desdibujado desde 2018. El año 2020 con la pandemia también supuso otro retraso más, pero como venimos diciendo desde hace más de un año, los azules tienen el pie abajo y todo irá ligado a lo que ASML pueda llegar a ofrecerles en efecto y tiempo.

Intel liga su avance en chips a ASML: 1,4 nm en 2026, 1 nm en 2028

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Lo que ha presentado ASML e Intel es realmente llamativo, puesto que estamos en un punto intermedio en el roadmap donde veremos debutar al proceso Intel 4 a 7 nm, siendo el primero en la historia de la compañía con EUV. Intel 3 será una pequeña evolución del proceso anterior, pero no rebajará, en principio, los nanómetros, sino que se optimizarán esos 7 nm para ganar rendimiento por vatio y otras mejoras.

Ese será el final de los transistores como los conocemos en Intel y también de los procesos litográficos tradicionales, puesto que Intel 20A y 18A serán disruptivos. De los 7 nm se pasarán directamente a los 2 nm y a los 1,8 nm ya para finales del año que viene, cumpliendo, por fin, con la escala de ASML y estando al día con sus rivales.

La carrera vuelve a tener tres participantes

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Intel, Samsung y TSMC vuelven a lo más alto, pero en el caso de los azules pretenden obtener la ventaja gracias a la prioridad que les concederá ASML. El Intel 14A a 1,4 nm llegará dos años después, en 2026 con la segunda generación de escáneres High NA EUV, pero lo más impresionante es que en 2028 ya estará Intel 10A a 1 nm.

El escáner que podrá darles vida será el sucesor del EXE:5200 de ASML, el cual, en principio, permitirá grabar obleas con hasta 0,8 nm a una velocidad de 220 WPH. Por lo tanto, no sabemos si es que ASML pretende upgradear su EXE:5200 como tal para el Intel 10A, o es que este de por sí tendrá la precisión necesaria para hacerlo como tal.

ASML-EUV

Recordemos que aunque el escáner pueda grabar por debajo del proceso litográfico del diseñador de chips, puede no conseguirlo con la suficiente precisión y no tener una tasa de éxito alta. Esta escala, la de 1 nm, es la que se denomina atómica, puesto que ya es inferior a una gran mayoría de átomos de compuestos usados en la industria, pero no a todos.

Donde se llegará al límite cuántico será en 2036, donde estaremos en el Intel A2 a 0,2 nm con transistores CFET, ahora sí, siendo completamente escalado al tamaño de cualquier compuesto atómico existente. En solo 13 años tendremos que cambiar el método de reducción a lo atómico, ¿quizás lleguemos a poder trabajar con electrones? ¿Protones tal vez? Lo veremos.